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等离子去光阻机PA01/PA03B
发布时间:2020年02月11日
有 效 期:2020年08月12日
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详细说明
功能
快速去除晶圆上之残留光阻,达到晶圆表面洁净,蚀刻率同业*高
特点
‧处理均匀性佳
‧离子能量低、不损伤基板
‧没有电极及基板的污染
‧专利设计之特殊等离子电极
‧高密度等离子源
ˇ等离子效率高、清洁效率高
ˇ可控制低的离子能量
ˇ结合化学反应性及物理撞击性
‧处理速度快、清洁效率高、可靠度高
‧操作范围广
‧可使用多种制程气体
‧全自动且容易操作
‧设备稳定高,容易维护
‧可依客户需求作更改
应用产业
‧残余光阻去除
‧蓝膜残胶去除
‧PSS来料清洁制程
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886-62013306
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公司地址:
中国台湾台南市台湾省台南市永康区中正路279巷21弄59号
邮 编:
公司主页:
http://creatingnano.qy6.com.cn
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