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等离子去光阻机PA01/PA03B

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详细说明

    功能

快速去除晶圆上之残留光阻,达到晶圆表面洁净,蚀刻率同业*高



特点

‧处理均匀性佳

‧离子能量低、不损伤基板

‧没有电极及基板的污染

‧专利设计之特殊等离子电极

‧高密度等离子源

ˇ等离子效率高、清洁效率高

ˇ可控制低的离子能量

ˇ结合化学反应性及物理撞击性

‧处理速度快、清洁效率高、可靠度高

‧操作范围广

‧可使用多种制程气体

‧全自动且容易操作

‧设备稳定高,容易维护

‧可依客户需求作更改



应用产业

‧残余光阻去除

‧蓝膜残胶去除

‧PSS来料清洁制程

 
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